Название: Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем : в 2 ч., часть 1
Автор: Королёв М. А., Крупкина Т. Ю., Ревелева М. А.
Издательство: Лаборатория знаний
Год: 2020
Cтраниц: 401
Формат: pdf
Размер: 15 мб
Язык: русский

Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания интегральных схем: химическая и плазмохимическая обработка материала; введение примесей в кремний; выращивание окисла кремния и его охлаждение; литография; создание металлических соединений и контактов. Приведены методы моделирования процессов распределения примесей в полупроводниковых структурах._Для студентов и аспирантов, специализирующихся в области микроэлектроники и полупроводниковых приборов. Может быть использовано также специалистами, работающими в данной области.





ОТСУТСТВУЕТ ССЫЛКА/ НЕ РАБОЧАЯ ССЫЛКА ЕСТЬ РЕШЕНИЕ, ПИШИМ СЮДА!