- Добавил: Igor1977
- Дата: 13-06-2019, 10:21
- Комментариев: 0
Название: Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники
Автор: Кузнецов Ф.А.
Издательство: Новосибирск: Сибирское отделение РАН
Год: 2013
Формат: pdf
Страниц: 176
Размер: 50 mb
Язык: Русский
В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании MO CVD процессов.