Spacer Engineered FinFET Architectures: High-Performance Digital Circuit Applications
- Добавил: harun54
- Дата: 17-08-2017, 17:44
- Комментариев: 0

Автор: Sudeb Dasgupta and Brajesh Kumar Kaushik
Издательство: CRC Press
Год: 2017
Формат: PDF
Размер: 4 Мб
Язык: английский / English
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.

Внимание
Уважаемый посетитель, Вы зашли на сайт как незарегистрированный пользователь.
Мы рекомендуем Вам зарегистрироваться либо войти на сайт под своим именем.
Уважаемый посетитель, Вы зашли на сайт как незарегистрированный пользователь.
Мы рекомендуем Вам зарегистрироваться либо войти на сайт под своим именем.
Информация
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.